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一、 前言

*在半導(dǎo)體行業(yè)起到非常關(guān)鍵的作用， 常常作為硅片清潔劑， 印刷電路板刻蝕劑以及處理金屬 雜質(zhì)。本次實(shí)驗(yàn)采用 JH-T7全自動(dòng)電位滴定儀依據(jù) GB/T 1616-2014  工業(yè)*測(cè)定，測(cè)定某半導(dǎo)體上游 廠家的工業(yè)藥水中*的含量， 用以驗(yàn)證電位滴定法檢測(cè)工業(yè)藥水中的過(guò)氧化氫方法是否可行。

二、儀器與試劑

2.1、儀器

JH-T7全自動(dòng)電位滴定儀， 復(fù)合鉑電極， 容量瓶， 分析天平等

2.2、試劑

c=0.1mol/L 的 KMnO4 標(biāo)準(zhǔn)滴定液， 硫酸溶液（20%） ， 去離子水

三、 實(shí)驗(yàn)方法

3.1、實(shí)驗(yàn)過(guò)程

用減重稱量法準(zhǔn)確稱取 1g 試樣（精確至 0.0001g)于滴定杯中，加入 50mL 去離子水，再加入 10mL20% 的硫酸溶液， 放置于滴定臺(tái)上， 啟動(dòng)事先編輯好的方法， 用高錳酸鉀滴定液進(jìn)行滴定， 同時(shí)做空白實(shí)驗(yàn)。

3.2、儀器參數(shù)如表所示：

表 1 *測(cè)定滴定儀參數(shù)設(shè)置

四、結(jié)果與討論

4.1、實(shí)驗(yàn)結(jié)果

樣品經(jīng)測(cè)試， 得到實(shí)驗(yàn)結(jié)果如表 2 所示：

表 2  *含量測(cè)定